11月4日音书，凭证半导体缱绻机构TechInsights的最新发布的论说称，跟着极紫外 （EUV） 光刻时间的演进，该时间日益增长的动力条目或将成为一浩劫题。

当前EUV光刻时间是制造7nm及以下先进制程所需的关键时间，荷兰的 ASML 和比利时的 imec 一直是EUV光刻时间研发方面的领军企业。ASML下一代High NA EUV不仅系统重大且复杂（竖立在晶圆厂中需要更多的空间，尤其是高度，因此一样用于新的晶圆厂），同期资本也相等不菲，达到了3.5亿好意思元。

好意思国政府近日还晓喻提供8.25亿好意思元的联邦资金，以撑捏在纽约州奥尔巴尼打造EUV时间研发中心。这亦然好意思国政府在2013年Cymer被ASML收购之后，关于光刻时间研发的再行喜欢。

在此之前的2023年12月11日，好意思国纽约州还晓喻与包括IBM、好意思光、哄骗材料（Applied Materials）、东京电子（Tokyo Electron）等半导体大厂完结一项和谐合同，预测将投资100亿好意思元在纽约州奥尔巴尼纳米时间抽象体营建下一代High-NA EUV半导体研发中心，以撑捏寰宇上最复杂、最矍铄的半导体的研发。

此外，英特尔本年仍是最初公共在其位于俄勒冈州的晶圆厂内安设了两台High NA EUV光刻机，合计其Intel 18A以下顶端制程作念准备。

“咱们当前凭借'最初一步'策略作念好了充分准备，不错对阛阓需求作念出快速响应，”英特尔首席试验官 Pat Gelsigner 近日示意。“跟着咱们现已完成向 EUV 的过渡以及 Intel 18A 的推出，咱们在 Intel 14A 及更高版块的节点斥地节律愈加平日。此外，咱们的团队荒诞地专注于擢升晶圆厂的坐褥力，跟着时分的推移，这使咱们梗概以更少的资源坐褥更多的居品。”

TechInsights指出，一台High NA EUV竖立的功率高达1400KW，这亦然半导体工场中最为耗电的竖立。而跟着配备EUV光刻机的晶圆厂数目的胁制增长，关于电力的需求将会激增，这将对应电力基础要领提议相等大的挑战。

TechInsights 当前正在追踪 31 家使用 EUV 光刻时间的晶圆厂，另外 28 家工场将在 2030 年底之前安设EUV光刻机。这将使正在运转的 EUV 光刻机数目加多一倍以上，终点于每年仅为 EUV 系统供电就需要逾越 6,100 吉瓦（1吉瓦= 1000兆瓦= 1000000千瓦）。

预测到2030 年，仅 EUV 光刻机的年用电量操办就可能逾越 54,000 吉瓦，这比新加坡或希腊等好多国度每年的耗电量还要多。这突显了对可捏续动力措置决策的进攻需求，以撑捏半导体行业胁制增长的需求。

诚然当前的500 多家半导体制造公司当中，只消少数公司领有撑捏 EUV 光刻机和谈论时间，但仍是关于特定的区域动力网带来了影响。比如仍是使用EUV系统进行多数目坐褥的台积电位于中国台湾的晶圆厂、韩国的三星和SK海力士晶圆厂、好意思光位于日本的晶圆厂、好意思国亚利桑那州的英特尔和台积电晶圆厂、好意思国俄亥俄州的英特尔晶圆厂、好意思光位于纽约州及爱达荷州的晶圆厂以及三星位于得克萨斯州的晶圆厂。

诚然 EUV 竖立是半导体晶圆厂最耗能的竖立，但它们当前仅占晶圆厂内总耗电量的 11% 把握。其他半导体竖立、基础要领和 HVAC（供暖/透风/空调）系统也会对举座动力耗尽产生紧要影响。

TechInsights 高等可捏续发展分析师 Lara Chamness 示意，为了确保可捏续的异日，半导体制造行业需要投资节能时间，探索可再灵活力，并与政策制定者和谐，以派遣电力基础要领的挑战。

裁剪：芯智讯-浪客剑